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超临界萃取/反应/制粒

简要描述:超临界萃取/反应/制粒可广泛适用于(1)药物、食品和类药物营养品等目标产物的提取(2)超临界干燥(3)超临界清洗(4)超临界印染(5)超临界反应等。具有三种微粒制备方式:GAS,PCA ,RESS。

  • 更新日期:2023-11-07
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详细介绍

Helix超临界萃取/反应系统,REASI HELIX超临界萃取/反应/制粒可广泛适用于(1)药物、食品和类药物营养品等目标产物的提取(2)超临界干燥(3)超临界清洗(4)超临界印染(5)超临界反应等。具有三种微粒制备方式:GAS,PCA ,RESS。


HELIX REASI HELIX多功能超临界仪技术参数:

  • 超临界萃取/反应/制粒可以用于超临界萃取,超临界反应,超临界微粒制备

  • 最高操作温度可达 250℃

  • 最高操作压力可达 10,000 psi (680bar),可选1000Bar。

  • 最高流量400ml/min(液态)

  • 可选配分离模块

  • 模块化的设计,可方便的进行系统调整

  • 萃取釜承压为 30,000 psi,萃取体积:5ml至4000ml可选,可根据用户需求进行定制。

  • 可添加夹带剂 (夹带剂泵的压力为10,000 psi)

  • 触摸屏电脑控制,人性化的操作界面

  • 结晶微粒无溶剂残留

  • 具有三种微粒制备方式:GAS,PCA ,RESS。

  • 干燥气凝胶

  • 可选配搅拌功能

  • 可选配液体逆流萃取

  • 可选配PSE(压力溶剂萃取)包

  • 三重过压安全保护装置及经济压力释放装置

  • ASI是超临界技术,通过了ISO9001的质量认证,是超临界领域通过美国环保署绿色认证的公司。

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