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Helix超临界萃取/反应系统，REASI HELIX超临界萃取/反应/制粒可广泛适用于（1）药物、食品和类药物营养品等目标产物的提取（2）超临界干燥（3）超临界清洗（4）超临界印染（5）超临界反应等。具有三种微粒制备方式：GAS，PCA ，RESS。
HELIX REASI HELIX多功能超临界仪技术参数：
超临界萃取/反应/制粒可以用于超临界萃取，超临界反应，超临界微粒制备
最高操作温度可达 250℃
最高操作压力可达 10,000 psi (680bar)，可选1000Bar。
最高流量400ml/min（液态）
可选配分离模块
模块化的设计，可方便的进行系统调整
萃取釜承压为 30,000 psi，萃取体积：5ml至4000ml可选，可根据用户需求进行定制。
可添加夹带剂 (夹带剂泵的压力为10,000 psi）
触摸屏电脑控制，人性化的操作界面
结晶微粒无溶剂残留
具有三种微粒制备方式：GAS，PCA ，RESS。
干燥气凝胶
可选配搅拌功能
可选配液体逆流萃取
可选配PSE（压力溶剂萃取）包
三重过压安全保护装置及经济压力释放装置
ASI是超临界技术，通过了ISO9001的质量认证，是超临界领域通过美国环保署绿色认证的公司。
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